中国光谷”10月16号报道，武汉太紫微光电科技有限公司的T150A光刻胶，通过了工艺量产验证。这也就意味着我国打破了日本的技术封锁，实现了国产光刻胶的自主生产。

那这光刻胶究竟是什么？听起来不过是个类似胶水的小东西，能有什么技术难度？我国之前光刻机被国外技术封锁也就算了，咋这么个小东西也被卡脖子呢？

光刻胶，简单来说，就相当于光刻机专用的转印纸。光刻机在光刻过程中，需要使用聚合物薄膜材料，也就是光刻胶，在紫外光、X射线等辐射下发生反应，把图案留在硅片上。

显示面板、半导体材料等，加工都需要光刻胶，上至宇宙飞船，下至智能手机，这些都用得到光刻胶。

所以可以说光刻胶的市场规模，基本约等于智能装备的制造能力，一个国家光刻胶的研发水平，也是其半导体技术水平的关键指标。

正是因为光刻胶如此重要，近二十年来，我国一直致力于攻克光刻胶技术。曾经我国的光刻胶大多都需要从日本进口，只要日本断供，我国的半导体产业就会因为失去材料，而陷入瘫痪。

但是一直对中国虎视眈眈的美国，一看中国还真研究出了光刻胶技术，立马就坐不住了，要联合日本对中国采取措施了。

那么，我国究竟是如何一步步突破日本的技术垄断，最终研制出光刻胶技术的呢？美日联合起来要对中国耍什么花招呢？我国又该如何破局呢？

当下的全球光刻胶市场，几乎被来自日本的JSR、富士电子等垄断。虽然日本在光刻胶领域的地位，已经获得了全球的认可，但是这也让日本获得了更多的主动权。

日本政府就曾经多次限制光刻胶的出口，导致其他国家陷入无“胶”可用的困境。

事实上，光刻胶的研制从技术上来看，并非是难以攻克的极端复杂难题。然而，现实情况是很多企业，并不愿意花费大量时间精力，深耕光刻胶领域。

其中一个重要的原因，是光刻胶的利润相对而言不高。光刻胶的生产成本很高，但在整个芯片产业的总产值中，所占的比例又很低。

芯谋研究总监张彬磊就曾指出：虽然日本在光刻胶领域的技术优势十足，市场份额庞大，但材料领域的优势并非难以逾越，只要其他企业长期投入，这种差距是可以快速缩小的。

于是我国便将光刻胶的研发，提升到了战略高度，并制定了一系列产业政策和发展规划来扶持光刻胶产业的发展。

例如“十二五”计划以来，光刻胶行业就获得了持续的政策支持，为产业发展创造了良好的政策环境，引导企业和科研机构加大在光刻胶领域的投入。

政府还通过科研项目拨款、产业基金等方式，为光刻胶的研发和产业化提供了大量的资金支持。这使得企业有足够的资金用于购买设备、开展研发、建设生产线等，加速了技术突破的进程。

有了足够的资金，国内的科研机构和企业自然就有了动力开展光刻胶的研发工作。

通过对光刻胶的成分和配方进行深入研究，提高了光刻胶对光的反应灵敏度，成像质量与分辨率得到了很大提高。

人才也是技术发展至关重要的一步。我国为加大对相关专业人才的培养力度，在各大高校和科研机构开设了光刻胶相关的专业课程和研究方向，培养了一批专业的技术人才。

同时，积极引进海外的优秀人才和先进技术，通过人才的交流与合作，提升我国光刻胶技术的研发水平。

科研机构、高校与企业，三方合作，一起建立了紧密的产学研合作关系。科研机构和高校提供理论支持和技术研发，企业则负责将技术成果进行产业化转化，双方优势互补，共同推动光刻胶技术的发展。

一看到我国还真把光刻胶技术研究出来，美国可坐不住了，向日本施压要对我国采取措施。

美国国会众议院的“中国问题特别委员会”，近来向日本发出了威胁。

该委员会明确表示，如果日本不按照美国的意愿，配合加强对中国芯片制造设备的出口管制，那美国将毫不犹豫地对日本企业进行制裁，比如对日本企业在贸易、金融等领域设置障碍。

美国甚至可能禁止向日本提供半导体补贴，这对于日本的半导体产业来说无疑是一记重创。

美国希望通过这种方式，进一步阻碍中国芯片产业的发展，维护自身在科技领域的霸权地位。

美国还在进一步加强对中国的技术封锁，明确规定限制美国以及相关企业，与中国在光刻胶方面的交流与合作。

美国甚至仗着自己与其他国家的紧密联盟关系，试图阻止中国参与光刻胶的国际标准制定。