红鑫科普社导读你有没有想过，为什么西方媒体总是对我们的国产光刻机冷嘲热讽，甚至放话说我们落后西方50年？随着时间的推移，特别是最近我们在半导体领域的一系列突破，这些嘲讽声似乎开始逐渐消失。
背后到底隐藏着怎样的故事和技术积累？继续往下看，你会发现更多关于我们半导体崛起的秘密！
国产光刻机的挑战与嘲讽自从国产光刻机问世后，西方媒体对我们嘲讽得就没停过，什么“落后西方50年”“根本造不出EUV光刻机”之类的言论更是满天飞。
随着时间的推移，尤其是近期我们半导体产业一系列的重大突破之后，这些嘲讽声也开始逐渐消失了。
美国对中国半导体产业的封锁与反应就在我们的大好形势之下，美国却依然没有放弃对我们半导体产业的封锁。为了阻止我们半导体产业的进一步发展，美国不仅阻挠荷兰ASML向我们出售EUV光刻机，就连其售后服务也停止了。
也就是说，就算我们买到了EUV光刻机，想要维护和保养也不行了。
EUV光刻机技术的积累与应用虽然EUV光刻机我们暂时无法获得，但并不代表我们就一无所获。早在上世纪90年代，我们就开始了对EUV光刻机技术的研究，只不过由于各种原因没有继续深入研究罢了。
但是，这并不妨碍我们在EUV光刻机技术上的一些积累，比如说长光所生产的氟化氩光刻机就已经在遥感卫星上应用了相关技术。
中国半导体产业的自给自足能力提升如今，随着技术的不断进步，我们在半导体领域的自给自足能力正在不断提升，未来更是会逐渐强大起来。
实际上，我们的半导体产业早就已经全力在突破芯片全产业链了。根据最新消息，到2025年，我们将成为全球第一大芯片出口国。
届时，我们不仅能够为全球提供芯片，还能为全球提供各种芯片制造设备，包括光刻机、刻蚀机、离子注入机等等。
华为技术创新对半导体行业的影响值得一提的是，华为还公布了一项重大的技术创新——多重曝光技术。该技术可以在传统DUV光刻机上生产出7纳米及以下的高端芯片，尤其是5纳米的芯片。
而且，该技术的生产成本仅为EUV光刻机生产成本的1/10，难度也远低于EUV光刻机。
这也就意味着，华为可以通过DUV光刻机生产出5纳米及以下的高端芯片，而且成本还低，这对于目前仍处于封闭状态的我们来说无疑是一大福音。
全球芯片市场的变局与中国的崛起我们还可以借此机会，快速提升我们半导体产业的技术水平，从而将来能更好地与国际巨头竞争。
其实早在2019年，我们就已经占据了28纳米芯片市场29%的产能了。未来，随着我们5纳米、7纳米芯片产能的不断扩大，将不再是梦。
国产光刻机的技术参数与市场竞争其实早在2019年我们就已经知道国产光刻机分辨率低于60nm，套刻精度低于8nm。也就是说，目前国产光刻机只能生产65nm及以上的芯片。
而且目前已知的是，我们的国产光刻机成本还高达4000万元左右。
这也就意味着，目前我们无法量产5nm芯片，更别说是7nm芯片了。
荷兰ASML在高端EUV光刻机市场的垄断与挑战虽然荷兰ASML一直在宣称自己有多牛，但其实也不过是强弩之末罢了。毕竟高端EUV光刻机它几乎垄断了，但其生产却依赖于西方40多个国家的技术支持。
没有了这些技术支持，ASML就算有再先进的技术，也无法将其量产出来。
华为多重曝光工艺对行业竞争格局的影响，而且，华为这项多重曝光工艺专利，几乎涵盖了DUV光刻机所有关键工艺流程，可以说是对行业内的一次革命性突破。
只要该技术得到普及，就算是ASML也无法再继续垄断高端光刻机市场了，因为大家都可以用低成本的方法生产出5nm及以下的高端芯片。
这些都只是猜测。要知道在9月的时候，我们工信部展示的氟化氩光刻机使用了完全国产的零件，并且能够量产常规芯片。也就是说我们已经拥有了相关技术。
美国对中国半导体产业封锁反而加速自主研发其实这也是因为美国对我们的半导体产业封锁太严了，导致我们无法获得相关资料。而且即便是找到了，也可能无法查证其真伪。
所以才会导致现在这种局面吧！
红鑫科普社总结我们在半导体产业面临的挑战与机遇，尤其是华为的技术创新为我们带来的希望。未来的竞争格局正在悄然改变，我们的自给自足能力也在不断提升。
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