国产光刻机,突破8nm了吗?

憨憨的禅兄商业 2024-09-18 21:47:01

工信部近日公布重大技术装备推广应用指导目录,其中两台曝光机被外界解读为我国已取得重大技术突破,可生产8奈米及以下晶片的说法甚嚣尘上。氟化氪光刻机其实就是老式的248nm光源的KrF光刻机,分辨率为≤110nm,套刻精度≤25nm;氟化氩光刻机则是193nm光源的ArF光刻机(也被称为DUV光刻机),但披露的这款依然是干式DUV光刻机,而非更先进的浸没式DUV光刻机(也被称为ArFi光刻机)。#光刻机概念走强,多股涨停#

光刻机的分辨率是什么?

光刻机的分辨率简单来说,就是它能在芯片上刻出多细的线路。分辨率越高,能刻的线路越细,芯片的性能就越强,能耗也更低。你可以把光刻机想象成一个“超级照相机”,它用光来在芯片表面“拍”出电路图样。而分辨率就是这个“照相机”能拍多清晰、多小的细节。分辨率高,光能“刻”出来的电路就特别细小,分辨率低,刻出来的电路就比较粗。

禅兄举个例子说明:

假如你在白纸上要画一条线,分辨率高就像用一支非常细的笔,可以画出极其精细的线条;而分辨率低,就像用一支粗大的记号笔,线条很粗。如果是高端的芯片制造,比如用于手机处理器、电动汽车智能驾驶芯片或AI服务器的芯片,通常需要非常高的分辨率,才能在芯片上放下更多的电路和功能。而低端的芯片,像普通家电用的芯片,分辨率就不用特别高。

光刻机的分辨率受光的波长限制。

全球最先进的光刻机使用的是极紫外光刻(EUV),它的分辨率可以达到7纳米甚至更小,这种技术能制造出最尖端的芯片(高端智能手机机普遍使用高通、联发科的手机芯片)。

较早期的深紫外光刻(DUV),分辨率则大概在10-28纳米,适合制造性能要求稍低的芯片。

工信部公布的氟化氩光刻机是65nm的分辨率,那么单次曝光能够达到的工艺制程节点大概就在65nm左右。

套刻8纳米是什么意思?

“套刻精度”指的是“每层之间的对准精度”,也就是芯片“一层图案曝光完成后,再在上面继续下一层曝光”制造过程的对准精度,并不是指能够制造的芯片的制程节点。

“套刻8nm”可以理解为在制造非常小、复杂的芯片时,必须一层层精确对齐,就像你做一个多层的三明治,每一层的食材都要摆得整整齐齐,不能错位,否则不仅影响卖相,三明治还可能散掉。在8nm工艺中,这种对齐需要达到纳米级别(极其微小)的精度。

将“套刻≤ 8nm”认为可生产8纳米芯片,在自嗨啊!要达到8纳米还早,新公布的DUV曝光机应该落后ASML至少10年,想要往浸没式DUV曝光机进军,技术难题还多著,若要追赶ASML,必须一步一步来,切不可盲目乐观。

极紫外(EUV)光刻机究竟是个什么“怪兽”?

悟空师徒四人西天取经,一路降妖除魔,升级打怪,历经81难,方才取得真经!靠的是合作。取得光刻机的真经又是什么?合作!

荷兰光刻机制造商ASML的EUV光刻机,其核心【光源技术】来自于美国Cymer公司。代表光刻机最高端技术的【EUV光刻机】,里面有10万多个零部件,由全球超过【5000家供应商】供应。在整个光刻机中,荷兰腔体占20%,英国真空占12%,美国光源占27%,德国蔡司光学系统占14%,日本的材料占27%。所以,ASML的EUV光刻机,其实就是荷兰、英国、美国、德国、日本等厂商科技合作的产物。

ASML半导体光刻机产品参数如下所示:

我国光刻机处于什么水平?

我国最新款的“氟化氩DUV曝光机”与荷兰ASML(Advanced Semiconductor Materials Lithography)的产品作比较。ASML在2015年推出了“TWINSCAN XT:1460K曝光机”其光源是193纳米,分辨率≤65nm,但套刻精度为≤5nm(TWINSCAN XT:1460K 是一款高生产率干式 ArF 光刻工具,具有出色的叠加和成像性能,可用于 65 nm 分辨率的批量生产)。这也意味着我国“DUV曝光机”性能比ASML在9年前推出的“XT:1460K曝光机”要低。

我国最新的氟化氪光刻机是248nm光源,分辨率为≤110nm,套刻精度≤25nm。TWINSCAN XT:1060K 是 2000年左右ASML 推出的最先进的 KrF(氟化氪)激光“干”光刻系统。这款光刻机是248nm光源,分辨率为≤80nm。

禅兄认为,我国的光刻机技术虽然取得了突破,但要达到国际先进水平,仍需持续的技术创新和研发投入。这些成就是中国科技自立自强战略的一部分,也是中国在高科技领域追求自主可控的重要步骤。

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12 阅读:3363
评论列表
  • 2024-09-19 14:38

    从无到有,这也是个突破!七十年代吃不饱,八十年代吃得饱,九十年代吃的好,现在只有你想不到的,没有吃不到的!

  • 2024-09-20 08:34

    我现在用的是华为P30,不知道芯片是多少制程的,只要达到这个水平(从不玩大型游戏)就足够用了。

  • 2024-09-19 15:00

    生产28nm芯片绰绰有余,稍加改进就可以造14nm

  • 2024-09-19 15:06

    搞个报纸旧就算了,还搞个30万像素的手机拍摄。

  • 2024-09-19 17:26

    这台机本身拿出来就是提震人心的而已,这台属于技术验证,也就是打板流片试产,完成技术验证对于市场需求来说也就过时了,本身日本荷兰同级别的光刻机就有技术优势,先发积累到现在又有了价格优势,国产发布也只是更新了技术名单,并不是说这个有多好,太多垃圾为了吃这个流量瞎扯了

  • 2024-09-19 21:07

    你配那幅图什么意思?暗示这又是放卫星?

  • 2024-09-21 08:41

    实事求是,难得可贵!

  • 2024-09-19 14:46

    这种垃圾文字就不要再出来了,看着烦人。

  • 2024-09-20 13:46

    DVD光驱启动盘多多关照一下经验给你完事了嘛小二郎背着书包上学校不怕风雨狂不怕太阳晒只怕先生说我懒没有学问无颜见爹娘学问学学做做样子吧弯道超车你的能力超乎你想象八月桂花香绿城牡丹花下死,做鬼也风流?[鼓掌][笑着哭][得瑟]