六硼化镧（LaB6）材料具有优良的电子发射性能和稳定的化学性能，被广泛用于各种大电流、长寿命的电子发射器件中，如高能加速器、动态大功率行波管、电子束注入机、离子源和强流脉冲电子源等。

1. 电子显微镜：LaB6被用作电子显微镜的阴极材料，因为它能提供高亮度和稳定的电子束。

2. 等离子体设备：由于其高熔点和良好的热稳定性，LaB6被用于等离子体设备中的发射源。

3. 热电子发射源：在需要高亮度电子束的设备中，如质谱仪和X射线设备，LaB6也是一种常见的阴极材料。

4. 真空管和电子管：LaB6阴极用于一些真空管和电子管中，提供长寿命和稳定的电子发射。

5. 光电器件：在一些光电器件中，LaB6也被用作发射材料，利用其良好的光电发射特性。

六硼化镧膜层

六硼化镧（LaB6）薄膜制备要求的条件低，制备工艺简单，容易制备出大面积或复杂表面形貌的六硼化镧（LaB6）薄膜阴极，制备成本较低。因此，研究六硼化镧（LaB6）薄膜在大面积基底上的制备方式和性能十分重要。

镀膜方法

目前，制备六硼化镧（LaB6）薄膜的方法主要有3种，电子束蒸发法、磁控溅射法和化学气相沉积法。