中国国产EUV获科技进步奖提名，官方成果展示，EUV有了，某城市工厂已经投产 近年来的芯片禁运及相关制裁，让我们看到了自身存在的差距，华为等高科技企业被迫自力更生，艰苦奋斗，也是未来国家崛起的重要推动力量。 如今，在华为发布自研芯片手机后，又一个好消息传来。 中国突破EUV所有科技，唯一绕过去的专利是光源小型化专利，于是，国内出了个鬼才。 众所周知，国际当前流行的芯片生产技术主要依靠荷兰ASML等公司的光刻机解决技术，而国外通常是一个光源一个光刻机，由于技术封锁和高端设备禁售，我国只能自行研发和摸索，并且无法绕开光源小型化的专利，于是充满智慧和决心的中国研发人员，想到了另一种思路。 目前我国已经开始研究新的国产芯片研发和生产方案，已经获得国家专利提名，并且相关生产基地已落成。 据悉，中国也将采用最新的EUV技术，但和国际主流有很大区别，致力于通过一个大型光源，一个光源但多台光刻机的模式，与ASML的EUV相比就是光源较大，不易移动，但功能是一样的，也就是相当于光源固定，移动设备的方式来进行。 怪不得ASML的老板急了，说中国人能想出他们想不到的解决方案，对华技术禁令让中国更强大。 不得不说，想出这种方法的科研人员真的是鬼才，才华横溢。 根据一位资深光刻机研究人员的发言说，他们专业人士一直都被欧洲人的思路套牢了，总想着怎么完成EUV的最后一步，EUV光源的小型化。 经过不断的研究摸索，技术人员终于了解到，光源小型化不适合我们，或者是当前的国际大环境下难以实施。那么我们的光源就造这么大，放弃小型化的思路西方人的EUV是光源在机器之间移动，我们的光源不移动，而机器移动，其实作用是类似的。 现如今，中国国产EUV可能也有了，据了解国内某城市生产基地或已经落成，正在进行最后的调试工作，年内将开始试生产的环节，如果顺利的话，第一代产品就是国产3NM芯片。 另据了解，这个是2023年科学进步奖提名的成果展示，已经开始实际应用阶段。 如果这项重要的科研成果能够最终实施并取得实效，无疑是我国微电子领域里程碑的时刻，不仅可以彻底打破西方列强封锁 ，还可以提振相关产业实现快速发展，引领世界潮流，不知道那个时候，美国等国家作何感想？ 对此，大家怎么看呢？#华为从事芯片#