【台积电前副总裁林本坚：半导体技术已经进化，无法由单一国家或地区垄断】 光刻技术的突破性人物台积电前副总裁林本坚先生，今天在日本东京进行专题演讲时指出：半导体科技已经进化到不是任何国家可以全部垄断，因为半导体设备包括设计、光源、材料、蚀刻、沉积、检测、量产等不同关键技术，分布在美国、荷兰、德国、日本、韩国、 中国大陆、中国台湾等地，所以是无法由单一国家或地区进行半导体科技的垄断。 林本坚先生是半导体光刻技术突破的关键人物，2002年，他发明了“浸润式光刻技术”，彻底改变了集成电路的生产。这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率。当全世界的半导体研发团队都在专注于157纳米波长技术时，林本坚创造性地以193纳米波长的光，通过水作为介质，将其缩短至134纳米。他通过各种国际研讨会说服同行使用该技术，由此继续将摩尔定律延续下去。 也正为因为浸润式光刻技术的突破，让半导体制程一路从 65 纳米微缩到 45 纳米，并且延续了摩尔定律，从 45 纳米、28纳米、20 纳米、16 纳米、10纳米，延伸至 7 纳米。