终于官宣可以制造28纳米芯片了!紫外光、深紫外光、极紫外光，也就是UV、DUV、EUV，我们公布的2台为DUV光刻机。。 氟化氩光刻机也就是DUV光刻机，是小于8纳米，1:3的工艺比例，推算出我们可以批量生产制造28纳米的芯片。也就是相当于ASML公司2008年的水平。 如果4重曝光，28纳米也就是7纳米，就是成本太高，良率低。 按2年进步一代，2026年，我们可以到14纳米，2028年，我们到7纳米。所以我们再耐心等待到2028年。只需要2重曝光，我们就可以轻松制造出3纳米芯片。 这次不是网友猜测，而是村里自己直接公布，所以，不是什么捕风捉影，而是光明正大的推广使用。
中国企业加油！科技人员加油！！
这台最高能做65纳米的光刻机就是上微电子的DUV干式光刻机，也就是90nm光刻机，这台不是浸润式光刻机，浸润式光刻机是DUVI光刻机，也就是大家口中的28nm光刻机，经多重暴光，最高精度可达到7nm。
2年一代这是美国速度，我们的速度就像福建舰海试那么快，最多1年一代的迭代速度。
500种人类重要工业品我们都第一，不会缺光刻机。
65能做，完全不制于人，就是把命保住了。先保命，后面的再努力。
浸润式的仍未见峨
兄弟你不懂不要乱讲，多去看看懂技术的。这款光刻机目前多次曝光早就能生产7纳米了，还2028呢！华为目前的7纳米芯片用的就是这款光刻机。而且国内早就攻破了3纳米的技术，只是目前一直没有euv光刻机而已。你要知道机器能生产3纳米和你有3纳米的生产技术是两码事，不然全世界买EUV的不止台积电一家，但是能生产的就他一家。
加快速度，尽快超过外国的光刻机技术
时间还长，别怕
家中有粮心里不慌！中国🇨🇳加油⛽
这个好像是官宣了
今年已经官宣14纳米国产光刻机上市了，国产28纳米光刻机2020年就出来了。
这次不是网友猜测，是你自己猜测？
加油
中国加油，不能看殴美臉色
2027年是EUV节点。
又开始吹牛逼啦
祖国万岁！
第一这说明我们有做光刻机的优秀人才，我们造的出来。第二，我们和人家比差了3次创新，人家的创新我们知道了，我们会少走很多弯路。第三，人家已经无路走，已经在山顶了，我们必然到它的高度。
核心部件光栅由长光研发生产
我说的不是工信部公布的现壮，而是文章的作者说，按2年进步一代，2028年就可达到3纳米的水平
这种工业.明珠集大成者，中国科技要腾飞了，就目前来看西方的各种所谓制裁除了是笑话以外，以后只有仰望了
3年前的机器现在才公开
只要肯投入，有时间，没什么搞不定的
赶紧做点实打实的产品出来，这种炒作没意义。
饭一口一口，只要灶有了锅有，炒菜慢慢就会会了，慢慢就炒的好吃了，慢慢的就炒的色香味俱全了
你做出来没问题，问题是你卖不出去咋弄。
用不了多久，西方国家就会有某些人跳出来，揭露他们的纳米骗局！
如果是真的，就值得表扬，怕就是牛逼哄哄[汗][汗]
只是公布了一个标准，有公布其他了吗？
这台就是对标1980i的，你查查1980i能生产几纳米早说。
这么多年还停在这里，其实不要研发，只要拿现成的14nm搞搞复制、逆向，简单得多