太棒了！9月15日，工信部最新消息，中国国内首款氟化氩光刻机，已经全面在国内推广应用。据悉，这款光刻机光源193纳米，分辨率小于等于65纳米，套刻8纳米，可以生产24纳米的芯片。 看到这个消息，真的振奋人心。这个光刻机将具有划时代的意义。虽然它和目前世界上最先进的光刻机有差距，但是和其它光刻机都是多国一起研发来说，这是中国独立研发的全套光刻机设备。假以时日，相信我们的技术将会超越欧美国家。 虽然我们的的光刻机一直被打压，但是我们中国人不服输的精神刻在骨子里，越打压我越是要超越。相信总有一天，我们的高科技将会被全世界认可，我们的科技只会走在世界之巅，掐脖子的历史也将永远不会重来！ #寻找热爱表达的你#