工信部最新推广目录曝光，国产光刻机惊艳亮相，28纳米芯片国产化进程加速 工信部权威发布首台套重大技术装备指导目录，国产氟化氩光刻机赫然在列，其光源技术达到193纳米，分辨率与套刻精度均领先业界，实力不容小觑。 这款光刻机不仅能够支撑28纳米至7纳米芯片的制造，尽管与国际顶尖技术尚存差距，却已足够满足广泛民用需求，彰显了中国半导体产业的强劲动力。背后是多家顶尖制造商与科研机构的共同努力，特别是上海微电子的杰出贡献，实现了国产氟化氩光刻机的从无到有。 在全球科技竞争日益激烈的今天，中国正以光刻机为突破口，向世界宣告科技自强的决心与实力。国产光刻机的崛起，是中国科技自主创新的又一里程碑。让我们期待未来更多“中国造”在世界舞台上大放异彩！