这两天，很多网友都在关注工信部发布的一个信息，《工业和信息化部关于印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的通知》 其中网友重点关注的是推广国产氟化氩光刻机：分辨率≤65nm。 这表明，我们在光刻机领域又取得了突破。这也意味着，从理论上，我们可以制作7nm芯片。 这对荷兰ASML来讲，近期荷兰对华光刻机的出口限制，将会让ASML遭受更大的经济损失。 虽然国产氟化氩光刻机的套刻精度和分辨率指标从理论上讲，可以制造7nm芯片。但是在实际的芯片制造过程中，还受到很多因素的影响，例如多重曝光技术、光刻胶、刻蚀工艺等复杂因素的制约。 不管怎么说，对于中芯国际等国内芯片制造企业来讲，是一个好消息。对于国内芯片设计企业，尤其像华为这样受到美国打压和制裁的企业来讲，重要性不溢于言表。