周末利好消息，工信部公布首台氟化氰光刻机和氟化氩光刻机的推广应用指导目录，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm。 按照当前的宣布，我们已经能够制造8nm以下的芯片，虽然和3nm还有1代或1.5代的差距，但按照我们做事的原则，更精密的光刻机已经在路上，或者近一两年可能就量产，3-5年将赶上或者超越ASML光刻机，已经无悬念了。 这一次光刻机的宣布，会不会将ASML打回原形呢？而我们的光刻机概念股，将以怎么样的姿态庆祝我们阶段性的胜利，周三是高开高走？还是高开低走？让我们拭目以待吧！
周末利好消息，工信部公布首台氟化氰光刻机和氟化氩光刻机的推广应用指导目录，分辨率
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