尼康在2000年还是光刻机市场老大，由于错失了浸入式193nm的方案机遇，同期几乎没有人去订购尼康推出的157纳米干式光刻机，导致尼康徒呼奈何，市场份额给ASML夺取。 于是尼康决定使用上世纪90年代初的“i-line”老一代光源技术，来绕开日本的出口管制，用定制产品出口我国，已期进一步攫取利润维持企业发展，尼康将使用通用的电子零部件替换原有部件，预计价格能比佳能便宜 2～3 成左右。 而尼康已经在2024年1月正式推出了ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”，生产效率、套刻精度都会有进一步提升。 在美国的制裁下，我国需要打造一条去美化芯片产线，正适合尼康一展拳脚。