光刻机是目前最急缺的自主可控设备，除了上海微电子，大族激光是中国第二家量产光刻机的公司，目前大族激光正在研究的光刻机精度能达到3微米，主要用在分立器件领域，其中接近式光刻机已经投入市场，而步进式光刻机也已启动用户优化。
光刻机是目前最急缺的自主可控设备，除了上海微电子，大族激光是中国第二家量产光刻机
评论列表
热门分类
光刻机是目前最急缺的自主可控设备，除了上海微电子，大族激光是中国第二家量产光刻机的公司，目前大族激光正在研究的光刻机精度能达到3微米，主要用在分立器件领域，其中接近式光刻机已经投入市场，而步进式光刻机也已启动用户优化。
吹牛皮不打草稿
上微水平也差不多，1微米。拼上市继续搞钱。
小编先看看微米和纳米的区别吧[捂脸哭]
3微米等于3000nm，这种工艺好意思说啊，我都尴尬[大哭]
经与大族激光人员交流，他们可与光刻机无关，他们只做木头、金属等各种材质上的刻字[滑稽笑]
人家是纳米级别的，你这个微米级别的光刻机能用吗？！真逗乐！
光刻机的光源，只占到不算大的一部分技术难度。各种子系统都缺一不可。
现在还用分立器件是五六十年代的罢[捂脸哭]
我正在研究2nm的光刻机。
有用吗？除高端芯片紧缺外，其他都已产能过剩了。