光刻机先进制成当自强！据报道，美国商务部已致函台积电，对运往中国的某些用于人工智能加速器和图形处理单元的7纳米或更先进设计的复杂芯片实施出口限制。
全球光刻机最新进展：
阿斯麦：量产极紫外光刻机（EUV）
佳能和尼康：量产深紫外光刻机（DUV）
上海微电子：步进式光刻机和深紫外光刻机
（DUV）同步进行研发和测试中
大族激光：步进式光刻机进行研发和测试中
中国半导体的希望将全部寄托于上海微电子和大族激光的技术突破，上海微电子代表光刻机国家队，大族激光代表光刻机民企队。
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