超级大突破，EUV光刻机的紫外线技术，终于突破了！这是官方宣布的，不是网上流传的小道消息！这次极紫外线技术的突破，意味着我们制造EUV光刻机，将不再有什么真正的困难。 近日，哈工大正式对外官宣“放电等离子体及紫外线光刻光源”项目荣获黑龙江省高校和科研所职工科技创新成果转化大赛一等奖，这意味着我国在极紫外线光源技术上取得了重大突破，这是哈工大的骄傲，向科技工作者致敬，实现强国梦离不开他们辛勤的付出。 极紫外线技术的突破，是中国科技发展的一个重要里程碑，EUV光刻机作为高端芯片制造的核心设备，其技术难度极高，极紫外线技术的成功突破意味着中国在高端芯片制造领域的瓶颈被打破，从实验室到商业化生产的道路将会更加的顺畅，这是中国在科技研发上强大实力的体现，也是中国在工业领域强大实力的体现。 长期以来，全球EUV光刻机市场几乎被荷兰的ASML垄断，其背后是美国和日本企业的技术支持，我国现在能够突破这项技术，不但打破了国外的技术封锁，也使我国在芯片制造领域的核心技术上不再完全受制于人。 我国的科研团队攻克了EUV光刻机核心技术，这会为后续相关技术的研发以及创造提供大量的宝贵经验，也会为后续技术的创新提供大量的技术积累，这有利于提高我国在高端制造领域的自主研发能力。 同时，也为我国芯片产业的发展提供了强大的支持，有助于提升我国在芯片产业领域的地位和竞争力，从而推动我国芯片的出口以及市场的占有率，推动我国由芯片进口大国向芯片制造强国芯片出口强国的转变。 中国这些年在光刻机技术上的飞速发展，是让全世界都为之感叹的，曾有国外的专家断言，中国永远无法制造出光刻机，因为光刻机是整个人类文明的结晶，中国一个国家难以超越。 然而时至今日，在中国众多科研工作者的共同努力下，凭借着顽强的意志以及不败的信念，用实际行动回应了这些质疑。 中国现在的成功并非偶然，而是不断的投资，不断的加大研发力度 ， 不断的出台各种支持，在全国都投入了大量的人力物力财力，最终才取得了一系列的瞩目成果，同时还开展积极的国际合作，与全世界最顶尖的科研机构和企业进行合作交流，不断的提升自身的技术水平，海纳百川，有容乃大。 这次的突破不仅是技术上的突破，更是中国科技实力的体现，这样的突破成果将会为中国的芯片发展提供强大的支撑，推动中国半导体产业的跨越式发展。 相信不久的将来，中国在芯片领域，绝对会占据重要地位，感谢哈工大，国之柱石。 光刻机自研之路 聊聊哈工大 光刻技术大揭秘 国产光刻机出世 来聊聊哈工大 光刻机不是梦 哈工大固泰 极紫外光刻技术 高端光刻机突破 谈谈哈工大 中国光刻技术 光刻机科技 光刻机传奇 光刻机风暴 8纳米光刻机 8 纳米光刻机 相约哈工大 哈工大yyds 光刻机空调