金融界2025年1月4日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司取得一项名为“在半导体制造过程中应用沉积模式的方法”的专利，授权公告号CN114026500B，申请日期为2020年6月。
本文源自：金融界
ASML荷兰有限公司取得在半导体制造过程中应用沉积模式的方法专利
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金融界2025年1月4日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司取得一项名为“在半导体制造过程中应用沉积模式的方法”的专利，授权公告号CN114026500B，申请日期为2020年6月。
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