中国正在超越ASML。 激光诱导放电等离子体(LDP)EUV产生商业化的推动是光刻技术的DeepSeek时刻。 LDP比ASML使用的激光等离子体(LPP)效率高得多。LDP将少量锡蒸发到两个电极之间的云层中，然后用高压将锡蒸汽转化为等离子体。电子与锡离子碰撞产生13.5纳米EUV光。 LPP需要高能激光和复杂的FPGA实时控制电路。 LDP的方法更简单、更小、更具成本效益和更高的能源效率。 中国自主研发的EUV机器采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术，不同于 ASML采用的LPP方法，目前正在华为东莞工厂进行测试。试生产计划于2025年第三季度进行，量产计划于2026年进行。
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