美网友发出疑问：没有得到美国的允许，中国为何敢私自研发DUV光刻板？ 自打中美贸易战、科技战打响之后，我国便意识到了在尖端科技领域上，我们距离西方世界国家还有着一定差距。 其中，光刻机的差距是最大的，也让我们的半导体事业在贸易战、科技战中，处于不利地位。 但我国很快意识到了这一差距，举国之力发展光刻机技术，最终在近年来，陆续取得了优秀的成绩。 其中，最为引人注目的表示我国在DUV光刻机领域上，取得了重大的突破。 可也有人说，当今世界上，最为领先的光刻机技术乃是EUV光刻机，DUV光刻机取得的突破，不能算是突破。 可实际上，EUV先进不假，可DUV在大制程芯片上，依旧有不错的优势，比如成品良率高成本低，这一点，是EUV不能比拟的。 科技是一点一滴进步的，而不是一口吃下去一个胖子，哪怕是在美国重重制裁人，不少人坚信，迟早有一天，我国将完善光刻机产业的全套制备技术。 信息来源：网络分享 点进主页，关注更多精彩内容……
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德怡小薛
美国360岁修仙的妖怪，问过中国吗？