国产半导体设备迎来里程碑时刻!深圳新凯来首秀即交出硬核答卷,31款设备覆盖全产业链,核心技术100%自研。 现场最抢眼的ALD“阿里山”设备突破5纳米制程,薄膜精度比国际标杆还高30%,中芯国际产线已启动验证。 从刻蚀到量检测,新凯来用“武夷山”“普陀山”等中国名山命名设备,技术参数直追AMAT、东京电子,国产替代进入加速度。 更猛的是第三代半导体外延设备“峨眉山”,碳化硅良率飙到90%,直接把高压芯片成本砍半。 连最卡脖子的量检测设备也支棱起来了!0.1纳米级缺陷检测、X射线全参数分析,国内大厂产线已批量用上国产“火眼金睛”。 三年砸出200+专利,静电卡盘、纳米镀膜等黑科技把设备性价比拉满,国际巨头份额开始松动。 这场首秀不仅是技术突围,更吹响产业链集结号——深圳国资+华为系技术+顶级晶圆厂,中国半导体生态圈正式成型。
新凯莱参加中国半导体设备展的的一个展销工作人员,说漏嘴,承认光刻机(不是展示,还
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竹间一壶茶
好,埋头苦干,干实事。