国产光刻技术又爆猛料！中科院这次整的固态深紫外激光器太硬核了，直接输出193nm的光波，和ASML顶级光刻机参数完全对得上！这波操作相当于给国产芯片装了个「超稳心脏」，车间温度波动、电压不稳这些老大难问题直接拿捏，再也不用看外国设备的脸色了。 最秀的是这套全固态方案，体积比传统设备小三分之一，能耗直接砍半，维护周期还延长五倍！听说实验线跑三天三夜不带歇的，精度稳如老狗，光谱纯度和国际大厂完全对标。ASML高管都坐不住了，承认技术封锁反而逼出中国黑科技，现在荷兰人估计连夜开会改PPT呢。 虽然现在功率还只有70毫瓦（ASML的千分之一），但中科院二期计划已经启动，2026年要冲100W功率。配合上海微电子的纳米级工件台、长春光机所的光学镜头，国产DUV光刻机生态链肉眼可见地成型了。 中科院研发出全固态DUV光源技术
