中国光刻机历史性突破! 中科院成功研发全固态DUV光源技术,能将半导体工艺推进至3nm。 中国独立自主艰苦创业,命运掌握在自己手中! 祝贺!祝贺!祝贺! 致敬我们的科学家! 大家对此怎么看呢?欢迎到评论区留言讨论。
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