中国真造出来了！光刻机历史性突破，荷兰ASML担心的事情出现了
3月25日，中国科学院成功突破全固态深紫外（DUV）激光技术，光源波长达到193纳米，这一消息在全球科技圈引起了巨大的反响。[微风]
众所周知，荷兰的ASML几乎垄断了全球高端市场，其DUV和EUV光刻机占据了芯片制造的制高点。
但他们却多次配合美国，实施长期技术封锁，导致国内企业如中芯国际、华为等在高端芯片生产上受到限制。
但现在该紧张的是他们了，中国科学院的技术突破，是在没有借用荷兰ASML的技术路径下，完成了新的方案。
这一光源不仅能效比传统方案低70%，而且极具应用前景，与哈工大的EUV技术配合，中国的光刻机技术有了更强的“后劲”。
可以瞄准3纳米、2纳米甚至1纳米的高端工艺。
尽管现在技术仍处于实验室阶段，但如果能够顺利量产，这无疑将为中国的半导体产业打开新的局面。
但也不能忽视目前的差距，光学系统、镜头、专利壁垒等问题依然是未来要解决的难题。
ASML手握2万多项专利，这些技术壁垒无疑是中国必须跨越的一座大山。
但最难的我们已经踩着泥走过来了，未来虽然还长，但现在我们已经站在了舞台上！
