文|凭栏望史

编辑|凭栏望史

光刻胶技术

我们都知道，光刻机是生产芯片的必要机器，而光刻胶是机器正常运行的必要原材料，没有光刻胶的存在，芯片量产依然是一个大难题。

光刻胶种类繁多，有PCB光刻胶、显示光刻胶和半导体光刻胶等，其中，半导体光刻胶技术含量较高，分为为G线、I线、KrF、ArF和EUV5种技术类型。

国内能达到ArF级别的光刻胶，对起步不久的我们来说，EUV5光刻胶是“卡脖子”产品，但在半导体光刻胶领域，日本却是长期以来一家独大，占据着国际市场绝大部分的份额。

20世纪60年代，日本化学巨头TOK开始研发半导体光刻胶，70年代初，TOK成功开发出第一代正性光刻胶。

随后日本住友化学公司和日本JSR公司，也进入光刻胶市场，TOK、住友化学和JSR，这三家公司三足鼎立，成为日本光刻胶产业的龙头。

80年代，日本光刻胶技术进入黄金发展时期，TOK开发出i线光刻胶，大大提高了芯片制造的精度，随后TOK又成功开发出KrF光刻胶，大大提高了芯片结构的精细程度。

进入90年代，日本企业又研究出ArF光刻胶，这种光刻胶可以让芯片制造工艺，向更小的纳米级别迈进。

随后浸没式光刻胶、EUV光刻胶也在日本问世，这些技术，让日本稳坐全球光刻胶市场的第一把交椅。

TOK、JSR和住友化学三家公司，大约占据了全球光刻胶市场份额的70%以上，特别是在高端光刻胶领域，日本企业更是佼佼者。

但随着中国企业的加入，光刻胶领域或许迎来巨变，中国光刻胶企业的技术突破，让美国和日本不得不重视。

中国突破

中国对光刻胶技术的研究，虽然起步晚，但是发展速度有目共睹。

2015年，科华微电子成功开发出国内首款ArF光刻胶，虽然与国际领先水平仍有差距，但这恰好是激励我们进步的良药。

2020年，中国加大了对半导体产业的支持力度，多家企业获得大额投资，光刻胶技术研发和产能扩张也得到一定援助。

2021年，南大光电宣布，他们研发的ArF光刻胶已经通过验证，开始小批量供货，2022年，上海新阳宣布其193nm ArF光刻胶，已在12英寸晶圆生产线上实现量产。

目前，中国企业在光刻胶领域已经取得了显著进展，但也仅限于中低端市场，在高端光刻胶市场，中国企业与国际巨头仍存在差距。

据了解，武汉太紫微光电科技公司推出了T150光刻胶产品，不仅配方是自主设计的，技术工艺将会达到120nm，性能对标国际大企业产品，是中国的一次技术突破。

美国近些年，一直在针对中国半导体行业处处使绊子，看到我们越封锁越发展，他们心中自然也是十万火急，迫不及待的想要再施加更大的压力。

日韩作为美国的盟友，很多情况下唯美国马首是瞻，但凡美国提出的什么政策手段，日韩大概率会追随附和。

在光刻胶领域，日本自然是行业龙头，美国手握这一利器，忍不住磨刀霍霍。

10月19日，媒体报道美国警告日本政府，如果日本不能禁止对华出售生产芯片的相关设备，美国将代劳。

压力给到日本，而美国看着日韩荷卡住中国喉咙，则是坐山观虎斗，坐收渔翁之利。

日本会追随美国脚步，加大对华半导体行业的封锁吗？对于这种局面，我们又该如何破局？

日本态度

在美国看来，日本就应该听从美国的建议，一起联手打压中国半导体，这样做对他们本国的企业来说才是最好的。

中国是世界第二大经济体，市场广阔，需求庞大，禁止对华出口，势必会影响到日本某些企业盈利状况。

现在市场大环境不是很好，大企业尚且经得住考验，可其他中小企业岌岌可危，日本如果想的明白，就应该摆脱美国控制，自己做最优决定。

中日合作肯定是利大于弊，反而提高贸易壁垒，试图切断半导体行业的联系，到头来只会让日本国内企业受到打击。

荷兰光刻机巨头阿斯麦就是前车之鉴，由于美国的“限制出口”，导致这家光刻机巨头销量骤减，最新数据显示，该公司第三季度订单量不及预期的一半。

10月15日，阿斯麦公司股价创下26年最大跌幅，公司市值在一天之内蒸发超过500亿美元。

阿斯麦公司认为，中国是阿斯麦非常重要的一个市场，近些年来，中国的需求只增不减，今年前三个季度，来自中国的订单价值总额达到了所有订单的一半。

也就是说，中国一个国家包揽了了阿斯麦一半的销售业绩，但迫于美国的压力，他们几乎损失了中国这一市场，在华销售额大大萎缩。

本来，阿斯麦可以和中国双赢，但现在该该公司却业绩骤减，盈利能力下降，发展受挫。

这些后果，承担的不是荷兰，不是美国，而是阿斯麦自己，日本也该擦亮眼睛，看看美国对他们的要求，是真的为他们好，还是只是为了满足美国的一己之私。

中国也可以在适当的时候，管控“稀土”出口，这种重要原材料在手，也是我们的一大利器。

中国企业在光刻胶领域还有很长一段路要走，虽然走的有些艰难，但发展的心炽热，发展的斗志昂扬，不论美国做什么，最终都无法阻挡我们前进的脚步。