坏消息!西方再度施压,英特尔CEO:中国芯片技术将落后国际10年

苏姐聊科技 2024-08-15 02:50:47

文/YW

坏消息来了,我国芯片产业又被西方“卡脖子”了!在近日的2024年度“达沃斯世界经济论坛”上,英特尔CEO帕特·格尔辛格称,在老美等国家的联合限制之下,中国与全球顶尖晶圆厂的技术差距为10年!其实我国曾在去年一举把差距缩小至5年左右,那么,英特尔CEO帕特所说的10年差距到底在哪?我们的芯片产业又该如何发展呢?

一、麒麟9000S达到7nm工艺,技术差距一度缩小至5年

去年上半年,中国大陆区域明面上的半导体制造工艺技术为14nm,而台积电在当时已实现3nm技术,两者中间相差了10nm、7nm、5nm、3nm四代,所以大家当时普遍认为我们落后国际顶尖技术8-10年。

而到了下半年,华为麒麟9000S的出现,一举把技术差距缩小至5年!从晶体管密度来看,华为麒麟9000S达到了7nm的水准,而台积电是在2018年实现7nm工艺的,前后时间差距正好5年。

从极客湾手机/平板芯片测试数据来看,华为麒麟9000S性能表现与高通5nm芯片骁龙888接近,甚至还要略胜一筹。麒麟9000S明明工艺落后一代,却有越级性能表现,其中离不开我国和华为对半导体芯片产业的重视和投入。华为此前曾受多方制裁,麒麟9000S的到来,不仅使华为此前不活跃的手机市场重新复兴,也在当时让我国芯片产业终于看到希望。

二、芯片制裁加剧,技术差距再次拉远

但是好景不长,就在麒麟9000S芯片发布后,垄断半导体行业的各国开始加剧对我国制裁。老美又升级了芯片禁令,对AI芯片、半导体设备等的禁运要求更严格了;而J国限制半导体设备出国到我国,40nm以下的半导体设备都需要许可证;而H国的ASML(光刻机巨头),则吊销我国先进DUV浸润式光刻机许可证。

在各国的技术壁垒下,我国的芯片产业处处受阻。英特尔CEO帕特认为,在半导体设备受各国限制情况下,中国半导体制造业难以追赶全球顶尖水平,中国现有的工具,只能生产14nm,最多到7nm,突破不了这个底线,而台积电、三星、intel的技术,已经从3nm迈向2nm,甚至看向1nm去了。

三、“中国芯”将何去何从?

英特尔CEO帕特的预判没错,在缺少生产设备和技术的情况下,面对重重技术壁垒,我们的确在短时间内不能突破7nm这一堵围墙。这次各国虽然几乎把路都封死了,但无路可走我们更要自强,也正如鲁迅先生所言:“其实地上本没有路,走的人多了,也便成了路”。相信随着国家和各位科研人员的努力,我们的半导体制造产业终有一天会看到胜利的曙光!

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