美国制裁华为这几年，让光刻机这个专业设备彻底出圈，在国内几乎尽人皆知。

一聊到芯片封锁，大家都知道我们在光刻机上被卡脖子了。没有高端光刻机，我们就没法儿自己生产先进制程工艺芯片，现在一般指10nm以内。

实际上，就整个芯片产业链而言，我们需要突破的环节还有不少，但光刻机是关键环节，是核心。只要拿下光刻机，其他环节就不足为虑了，打个不太恰当的比喻，就好比“擒贼先擒王”。

前不久，华为Mate60系列如期发布，搭载了自研的新麒麟芯片，正式宣告我们突破了美方在先进芯片生产方面的封锁。

新麒麟芯片怎么生产出来的，由谁生产的，直到目前还是未知。

网上有消息猜是中芯国际，但中芯国际使用的是荷兰ASML的光刻机。大家可能不知道，这些光刻机设备，是可以被厂商远程监控、锁死的。

也就是说，中芯国际使用ASML光刻机生产了什么芯片，对方是能查到的。一旦查实违反了规定，设备就会被远程锁死，啥也干不了了。

于是，大家纷纷猜测国产光刻机已经取得了巨大突破。网上但凡出现了跟激光、极紫外光等相关的消息，总有网友想当然的将其与国产光刻机突破联系起来。

我们来看看近期流传比较多的几个版本。

第一个是，直接跳过了光刻机。国内有公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布。摘要显示，这项发明的亮点在于，不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻过程，直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。

不过，大家都知道，专利一般代表理论上的可行性，不代表能实际投入应用。

第二个是流传比较广的关于光刻机的大型化。网上流传的两张恶搞图显示，光刻机通过大型化可以轻松实现先进的制程工艺。

随后，更有“传说中的光刻机工厂”照片流传出来，说超级EUV光刻光源已经建好，直径460米，占地967亩。

又有大V把中国科学院高能物理研究所魏微研究员获得“2022年度陈嘉庚青年科学奖”，跟下一代光刻机联系了起来，让不明真相的群众误以为真。

昨天下午，中国电子工程设计院有限公司官方发布消息，一锤定音，称这不是啥光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS ）。

简单来说，HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。咱们在医院用的X光机是扫描人体的，HEPS是用来扫描分子、原子级别的。

它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。

根据科学网的介绍，魏微研究员目前参加的正是北京高能同步辐射光源项目。他在一众重大科学工程中领导专用前端芯片的自主研制工作。

但请注意，魏微的研究跟光刻机啥的根本没有关系，所谓的“下一代光刻机是X射线光刻机”，大家也不要轻信。

国产光刻机取得突破是万众期待的大事情，它在中美科技战中所承载的象征意义怎么形容都不过分。看到网上一些不靠谱的消息，大家当作消遣娱乐倒也无可厚非，但还是不要被人忽悠了。靠谱消息，还请以官方渠道为准。