国产光刻机还有希望吗？老美再次升级对中国半导体产业的打击，消息一出，很多人便注意到了国内知名企业上海微电子，目前上海微电子已经可以实现90纳米光刻机的量产，并且计划在2022年前交付国内第一台28纳米制程的沉浸式光刻机，可没有等来国产光刻机的消息，却等来了老美的打击，这不免让人心酸。

光刻机是生产芯片的主要设备，也是所有半导体设备中难度系数最大、精度最高的，全球只有荷兰的ASM、中国的上海微电子以及日本的佳能、尼康能够生产此设备，而在这当中ASML的技术是最先进的，是它控制着全球半导体行业的命脉，据有关数据显示：2021年ASML的销售额高达186亿欧元，净利润为59亿欧元，同比增长66%，其中63亿欧元来自42台EUV光刻机，占光刻机总销售额的46%，力压其它竞争对手。

虽然上海微电子是国内最大的光刻机企业，但和ASML等国际光刻机巨头相比还是存在差距，一些关键零件需要依赖进口，据了解，上海微电子光刻机的部分零件来自美国的MKS公司，而且这些零件都有很高的技术壁垒，短期内找到国产替代的可能性几乎是微乎其微，而如今美国却正式下令封杀上海微电子，直接影响到国产光刻机的研发进度。

要知道早在2020年，上海微电子就对外透露在2022年前交付国内第一台28nm制程的沉浸式光刻机，可如今已经是2023年，我们没有等来国产光刻机的消息，却等来了老美的打击，不得不说，老美也真够狠，几乎让中国半导体产业陷入绝望之中，而这也不是美国第一次针对我们了，实际上，中国在光刻机研发制造上起步并不晚。

早在1966年，我们就研制出了国内历史上第一台65型接触式光刻机，1985年我们又研制出国内第一台分布式光刻机：BG-101，值得一提的是，当时我们跟国际先进水平的差距只有7年，只可惜到了1996年，我们跑去发展经济，却把光刻机给放在一边，再加上老美跟其他国家又签署了瓦森纳协定，按照瓦森纳规定：禁止对我国出售高精密设备，因此我国相关的发展一直处于外国技术封锁之下。

另外，当时我们根本没有多余资金用在光刻机的自主研发上，这就导致与国外的差距再次拉开，时至今日ASML已经生产出3纳米的EUV光刻机，而我们还停留在90纳米，其技术至少落后ASML20年，这还怎么追？