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文｜般般

编辑｜昭明

“恢复与中国光刻机交易，不能受美国随意摆布！”这样的呼声在荷兰并不少听见，对于荷兰而言，光刻机是他们的一把利刃，奈何这把利刃因为美国的胁迫无法发挥作用。

前段时间，美国还洋洋得意自己可以通过让荷兰不出售光刻机来打压中国科技发展，没想到荷兰光刻机禁售禁令才出台没两天，我国自主研发的光刻机就横空出世了。

当然，几家欢喜几家愁啊。尤其是夹在中间的荷兰，更是懊恼不已，却又无可奈何啊。

在当今这个科技日新月异的时代，半导体行业作为信息技术的基石，其全球市场的发展与变化无时无刻不在牵动着世界经济的脉搏。

作为一个高度全球化、技术密集型的产业。从芯片设计、制造到封装测试，每一个环节都紧密相连，形成了错综复杂的全球供应链体系。

据国际半导体产业协会（SEMI）发布的最新数据，全球半导体市场规模在过去几年中持续扩大，预计到未来几年仍将保持高速增长态势。

这一增长动力主要来源于智能手机、数据中心、物联网等新兴领域的快速发展，以及传统行业对数字化转型的迫切需求。

然而，在繁荣的市场背后，半导体行业中只有少数几家跨国巨头凭借其强大的技术实力和市场占有率，掌握了大量的核心专利和技术标准，形成了对行业的垄断态势。

这种垄断不仅限制了市场竞争的充分性，还加剧了行业内的资源分配不均，阻碍了中小企业的成长和创新。

同时，一些国家为了维护本国企业的利益，纷纷采取贸易保护主义措施，对进口半导体产品实施加征关税、限制进口等手段。

这些措施不仅加剧了国际贸易的紧张局势，还可能对全球半导体产业链的稳定性和安全性造成威胁。

在光刻机国际贸易的复杂棋局中，荷兰与中国的关系无疑是一枚举足轻重的棋子。而围绕着光刻机这一高精尖科技产品的进出口问题，荷兰政府面临了前所未有的抉择困境。

中国作为荷兰光刻机行业的最大客户，对荷兰经济有着不可估量的贡献。然而，在美国的高压之下，荷兰政府不得不做出一个艰难的决定——签署限制向中国出口光刻机的条约。

美国出于自身科技霸权的维护，试图通过限制关键技术出口来遏制中国的崛起。而荷兰，作为欧洲科技强国之一，其光刻机技术在全球范围内享有盛誉，自然成为美国施压的对象。

然而，对于荷兰而言，这无异于是在“钱途”与“前途”之间做出选择。毕竟，中国市场的巨大潜力和丰厚利润，是任何一家企业都难以抗拒的诱惑。

去年9月1日，荷兰政府宣布了一项重大决策，对向中国出口ASML公司的NXT2050i和2100i两款顶级深紫外（DUV）光刻机实施严格限制。

这些顶级光刻机是制造先进芯片不可或缺的关键设备，对于提升芯片制程工艺、增强芯片性能具有至关重要的作用。

无独有偶，今年9月7日，荷兰政府进一步收紧了出口政策，将限制范围扩大至1970i和1980i两款中端DUV光刻机。

中端DUV光刻机虽然性能略逊于顶级设备，但仍是众多芯片制造商不可或缺的生产工具。它们的出口受限，将直接影响到我国芯片产业的供应链稳定性和生产效率。

可令所有人意想不到的是，荷兰的这一禁令非但没有如美国所愿削弱中国的科技实力，反而激发了中国在光刻机领域的自主研发热情。

与此同时，荷兰国内对于美国的这一举动也产生了强烈的不满和抵触情绪。他们认为，美国的行为不仅损害了荷兰的经济利益，更破坏了国际贸易的公平与秩序。

在光刻机领域，荷兰拥有全球领先的技术和市场份额，如果因为美国的干涉而失去中国市场，无疑将对荷兰的经济发展造成重创。

因此，越来越多的荷兰企业和民众开始呼吁政府重新审视这一决策，寻求与中国在内的各国建立更加平等、互利的合作关系。

逆境中迸发新生，国产光刻机千呼万唤总算横空出世了。就在荷兰政府再次宣布对中国实施光刻机出口禁令的阴霾笼罩之际，我国工信部发布了关于国产氟化氩光刻机的重大公告。

这一消息如同春风化雨，瞬间点燃了无数国人的希望之火。国产氟化氩光刻机的问世，标志着我国在半导体制造领域迈出了坚实的一步。

据权威资料显示，这款光刻机采用了先进的光源技术，其光源波长达到了193纳米，分辨率更是达到了令人瞩目的≤65nm，套刻精度更是≤8nm。

这一系列数据背后，是无数科研人员夜以继日的辛勤付出与不懈追求，更是我国科技自立自强精神的生动体现。

然而，当我们将国产光刻机与荷兰ASML公司的最新款光刻机进行对比时，不难发现两者之间的差距。

荷兰ASML公司的光刻机以≤38nm分辨率而闻名于世，不仅能轻松应对成熟芯片及存储器的制造需求，更通过多重曝光技术等创新手段，成功突破了7nm乃至5nm芯片的制造瓶颈。

面对这样的技术鸿沟，有人不禁心生悲观，认为国产光刻机在技术层面至少落后荷兰20年之久。

但历史的车轮滚滚向前，从不会因一时的落后而停滞不前。回顾过去，我们不难发现，荷兰光刻机巨头ASML也曾经历过从无到有、从小到大的艰难历程。

20年前，它不过只是荷兰众多代工厂中的一家普通企业，但凭借着对技术的执着追求与不断创新，ASML逐渐成长为全球顶尖的光刻机生产商。

这一历程告诉我们，技术的领先并非一蹴而就，而是需要时间的积累与不懈地努力。因此，对于国产光刻机而言，当前的差距并不可怕，可怕的是失去信心与斗志。

在日益复杂的国际格局中，我们更应保持清醒的头脑与坚定的信念，将眼光放得更远一些，将脚步踏得更实一些。

与其一味地眼红别人的好处，不如静下心来好好打磨自己的技术，不断提升自身的核心竞争力。

只有这样，我们才能在激烈的国际竞争中立于不败之地，实现光刻机技术的自主可控与全面突破。

参考资料：

大象新闻2024-09-14 21:12《工信部公布了重大技术工业设备推广目录：氟化氩光刻机》

观察者网2024-09-14 21:56《工信部推广国产氟化氩光刻机：分辨率≤65nm》