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光刻机作为芯片领域最为关键且重要的一大核心仪器，一直以来都被各各大厂商及其国家严格把控，尤其是位于荷兰的ASML公司，更是有着领先全球水平的半导体设备制造商，饶是以美国的科技水平都感到鞭长莫及。
可就是这样一个拥有着高端技术水平的国家，却一直充当着美国的“应声虫”，盲目的跟随着美国不断对我国半导体领域方面进行制裁，试图通过扩大管制的方法来遏制我们在这一方面的发展，在前段时间，更是又一次加大了对这一方面管控的力度。
但好巧不巧的是，荷兰刚刚公布扩大管制没多久，我国就公布了两条有关光刻机方面的重大消息，这也不禁让人感到喜上眉梢，难道我国光刻机啥领域又迎来什么重大突破了么？
荷兰扩大光刻机管制9月6日当天，荷兰突然宣布要在原有的光刻机管制范围上进一步扩大管制力度，这也就意味着，荷兰就连之前正常售卖给我国的光刻机设备也不打算卖了，至于他们这么做的理由，则全部甩到了美国身上，称是这么做都是因为美国的胁迫所导致的，他们也是被逼无奈。
虽然荷兰放的这番话说的似乎有那么一些道理，但是回顾美国对我国实行半导体产业打压时，他他们却总是会和日本一起响应美国的号召，对我国实行相应的出口管制政策，这种盲目跟风的针对行为，无论放到哪个国家身上，显然都是无法被接受的行为。
但对方毕竟已经宣布不卖了，我们也不能去抢，否则不就成为了像美国一样的“强盗”了么，所以我国也立即对荷兰的这一行为表示了不满，同时也放出了相应的消息进行推广。
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在9月9日当天，我国工业和信息化部印发了一则名为《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的通知，其中不仅公布了一系列科技方面所取得的重大成效，就连广大网友们密切关注的光刻机也有了新的进展。
据图表显示，我国的氟化氪光刻机（即KrF光刻机）和氟化氩光刻机（即ArF光刻机）都已经有了不错的进展，已经成为了可以公开推广的成熟国产光刻机设备，并且达到了可以工业化量产的水准。
第二条消好消息则是上海微电子装备（集团）股份有限公司突然在9月10号当天申请公布一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”，而这个设备的申请专利早在去年的3月份就已经申请了下来，如今选择在这个时间段进行曝光，背后的意义显然也不言而喻。
至于这个专利指的其实是EUV光刻机中最难的同时也是最为核心的零部件EUA光源，某种意义上来说，只要突破了这项难点，EUV光刻机的整机制造恐怕也早已提上日程，虽然这听起来不算什么太大突破，但在早年间，日本可是有媒体专门报道称：
没有一个国家，能独立造出EUV光刻机。
这也足以证明EUV光刻机的制造难度究竟有多么的高。
值得注意的是，前文中所提到的那两款光刻机，在本质上其实还与荷兰ASML厂商有着不小的差距，如果将他们现在生产的芯片比作高端的话，我们目前所能制作的芯片估计只能算做中低端水平。
不过在某种意义上来说，这其实并不算是一件坏事，毕竟作为先行者的荷兰，已经帮我们测试好了什么才是光刻机发展较为稳妥合理的路线，我们只要按照原有的路线进行发展，就可以省掉不少的时间与经历。
而我国目前在光刻机领域上所取得的贡献，也足以让我国在中低端芯片产业不受外国领域的制衡，实现自给自足的程度。
给我们图纸中国人也造不出来？光刻机究竟有多难造，这个问题的答案，或许可以从我国光刻设备工程技术研究中心主任——贺荣明身上发生的一个事情中得知。
2001年2月，我国领导提出了有关光刻机领域发展的重要方针，并且将其列为国家863重大科技攻关计划中的一项，并成立了上海微电子装备有限公司，而作为公司总经理的贺荣明为了更好的实现这一目标，专门带着团队前往国外进行学习，打算同他们展开相关领域上的合作。
可这群外国专家们在得知中国人也打算做光刻机时，不但漏出了一种不屑，反而直接了当的对他说道：“就是给你们全套图纸，你们也做不出来。”
据贺荣明本人所述，他当时被这句话深深地刺激到了，以至于回国后的十多年都无法释怀，直到我国真的在后来交付了第一台国产光刻机后，他心中的这一郁结才终于得以消散，但相较于荷兰的光刻机来说，却仍有这极大的差距。
之所以会出现这种状况，还是因为光刻机实在是太难造了，就连我国的中科院院士朱士尧都在一次谈话中表示：
全世界没有任何一个国家可以完成从5纳米高端芯片的设计到制造，是绝对不可能的事情，荷兰的ASML也只是世界上最高的制造厂商，而他们的机器也是集中了全世界几十个国家的顶尖工艺和设备所制造出来的，所以世界上才只有荷兰ASML这一个国家可以制造最顶尖的芯片。
不过我国目前所造出来的光刻机虽然没有达到这个级别，但也足以打破光刻机无法由一个国家制作这种神话，相信在不久后的将来，我国也可以实现对顶尖光刻机制造真正意义上的突破和实现，从此摆脱别国的制裁和限制。
参考资料2023-03-21 深圳市电子商会 日媒：没有一个国家，能独立造出EUV光刻机，网友：中国不信
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2014-01-06 经济日报 贺荣明
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