我们的光刻机突破官宣后，这可把网友们高兴坏了。这明摆着是中国芯片产业自己搞创新的一个重要里程碑，网友们看到自己国家这么多年的努力有了成果，都说这是咱们科技实力变强的有力证据。我们终于打破国外的技术垄断，让产业升级。但是发生了一个奇怪的现象，外国的网友跟着沸腾，美国、荷兰却沉默了。

国外网友看到我们的光刻机突破后也是赞叹有加，我们来看看这些外国网友是怎么评论的：

美荷却不吱声，一个重要原因是这次国产光刻机虽然很重要，但看参数只是个初级的 DUV 光刻机。这个光刻机大概只能生产 28nm 工艺的芯片，不能做 7nm 及以下的先进芯片。对 ASML 来说，它的核心利益在 7nm 以下的高端芯片市场。现在看，国产光刻机还没碰到 ASML 的核心利益。所以美荷没啥大反应，因为在他们预料之中，这个突破暂时还威胁不到他们的市场地位。

ASML 在高端 EUV 光刻机上确实很厉害。2023 年，ASML 净利润有 71 亿欧元。全世界就 ASML 能生产 7nm 以下高端芯片要用的 EUV 光刻机，它在全球市场份额快占到 100%了。

从技术上说，EUV 光刻机的极紫外线光源是美国 Cymer 公司的成熟技术，别的国家只能跟它买。反射镜面也得是高精度高光滑度的镜片，现在能做出来的厂商在德国。还有芯片上用的复合材料、光刻胶、高纯度化学品很多都是日本的专利。

其实说白了，美荷这一套光刻机也就是拿着美国、德国、日本等国家的技术组合在一起了，所以一封锁，老美就联合这些国家一起。不得不说也只有荷兰才能把这些东西组合到一起，然后卖个成品。

咱中国的氟化氩光刻机用的是 193 纳米的光源，跟荷兰 ASML 的 EUV 光刻机用的 13.5 纳米光源还差得很远。而且 EUV 光刻机的镜头精度比 DUV 高很多，听说把这个镜头放大到德国那么大的面积，误差也不超过 1 毫米。这些技术优势让 ASML 在高端光刻机市场的地位很难被撼动，28nm 制程的光刻机离威胁它的地位也还远。

为什么咱们的技术差得远？一方面是因为我们的光刻机研发比较迟，他们这些国家比我们早很多年，他们都已经有了成品，我们还在研发呢。

另一个方面是各种技术和材料他们控制的比较严格，光刻机那么的核心技术和材料就我们自己怎么能和那么多国家比？就比如他们当中个别国家有一些技术专利都不能研发成功，更何况我们呢？

再一个就是我们有可能是低调而已，因为公布出来的都已经大量生产了。他们限制后，我们总得有个说法，有可能我们就只公布了一点点而已，大招怎么可以轻易亮相呢？所以美荷就不说话，看着情况发展，好决定下一步咋办。

美国为了保住自己在芯片领域的地位，一直给荷兰施压，扩大对中国芯片出口的限制。从不让出口 EUV 光刻机，到现在把一些中高端的 DUV 光刻机也禁售了，美荷能用的办法都用了。这样一来，面对国产光刻机的官宣，美荷也没啥别的办法了。

大家都知道，ASML 是全球最牛的光刻机厂商。2021 年到 2022 年，ASML 的产品估计在中国市场的销售额能有 20 亿欧元，占 2021 年营收的 11%左右。以后中国在芯片制造领域越来越厉害，会有更多晶圆厂在中国建起来，这些晶圆厂都得要光刻机。有人估计到 2025 年以后，中国芯片自给率能到 70%，就问他们慌不慌？

国产光刻机有了突破，肯定会对全球半导体产业格局有很大影响。可能会让产业链重新调整，中国光刻机越来越厉害，国内芯片制造企业就不用那么依赖国外光刻机了，这会让全球半导体产业链重新布局。原来在高端光刻机市场占主导的国家和企业就得面对中国的竞争，调整他们的市场策略和技术研发方向。就好比新能源汽车，以前国外厂商挂个标躺着卖，现在呢？喊破嗓子都卖不动。

国产光刻机突破是中国科技进步的重要标志，也是全球半导体产业发展的重要转折点。我们有理由相信，以后中国科技会创造更多奇迹，为全球科技发展做更大贡献。以前的他们对我们爱答不理，现在的我们让他们高攀不起！