今日消息!1月4日早上8点前,突破极紫外光源,EUV光刻机迎来曙光每天一起跟
1,哈工大“放电等离子体极紫外光刻光源”技术获突破,13.5nm极紫外光源可用于EUV光刻机。国内在光刻机多核心技术有进展。哈工大的突破使格局生变,虽ASML有新动作,但中国的追赶让打破垄断充满希望。2,2024年度央企十大超级...
【极紫外光刻】新闻资讯
1,哈工大“放电等离子体极紫外光刻光源”技术获突破,13.5nm极紫外光源可用于EUV光刻机。国内在光刻机多核心技术有进展。哈工大的突破使格局生变,虽ASML有新动作,但中国的追赶让打破垄断充满希望。2,2024年度央企十大超级...
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