最近在工业和信息化部印发的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，开始推广国产光刻机了，应该是干式ArF光刻机，光源193纳米，65纳米已经可以量产，套刻小于等于8纳米。

按照专家的解读，只要实现了65纳米制程光刻机，意味着军事上用的芯片就可以独立生产了，如果进一步完全实现28纳米制程光刻机，意味着绝大多数家用电子产品都可以独立自主，实现7纳米制程光刻机，意味着手机、电脑等电子产业也完全摆脱国外限制。

目前国产的DUV的制程已经可以达到65纳米，既然工信部都开始推广，意味着稳定大规模量产可用，这种干式ArF光刻机已经可以在产线上跑了；28纳米需要浸润式ArF光刻机，目前还得依赖进口光刻机+国产配套设备；7纳米需要迭代后的浸润式ArF光刻机，4纳米以下需要EUV了，估计还在实验室呢。

得益于美国的制裁，国内的半导体产业链快速被激发出来，其实国内并不缺人才，只是以前一直得不到重视，如今已经逐步进入正向循环，我们的进步比预计快的多，短则三年长则五年，国产EUV应该可以量产4纳米以下的芯片。

光刻机虽然难，但说到底也已经是成熟的技术了，我们对于基础原理和大方向都明确的前提下，需要做的就是不断的尝试和迭代，按照正常的商业逻辑来说，不太可能实现，毕竟投入太大了，只是恰好美国给了我们这样一个机会，让我们不得不全力去攻关。

只要市场有需求，那我们就可以快速建立起产业链的市场循环，更何况ASML在美国的支持下，已经明确禁止为其在大陆的特定DUV提供维修服务，现在的一些服务许可将在年底到期，到时ASML就不再续发许可，也就不会再进行技术支持了。

既然ASML不讲道理，那我们也可以拒绝ASML专利授权要求，可以直接仿制其DUV光刻机的部件，荷兰在美国的支持下想要中国的命，那我们不回敬下看来是不行了。

2024年上半年中国的芯片总产量达2071亿枚，出口总额近5400亿元，以成熟制程为主，未来只能中国能实现7纳米制程以下的光刻机，那我们就会成为世界的科技中心。

中国人从来不怕打压和制裁，正所谓战略上藐视敌人，战术上重视敌人，哪怕我们身处逆境，只要始终保持赶超的决心，那我们最终一定会成功的。