当下，生产高端芯片必需的EUV光刻机，只有荷兰的ASML能够研发制造。这也意味着，只要ASML断供，就卡住了全球芯片厂商的脖子。所以，除了中国企业之外，全球半导体芯片领域的众多厂商都在思考如何绕开光刻机打开芯片产业的新格局，而近期佳能公司就爆出了猛料。该公司对外销售的最新型芯片生产设备就可以绕过ASML的光刻机制造5 nm 芯片。 据该公司官网资料显示，这款全新芯片制造设备，其核心就是“纳米压印”技术。这种技术在光学光刻领域的应用已久，只不过良品率一直无法保证。这就导致无法实现规模化生产，商用价值自然大打折扣。很显然，佳能公司经过不断尝试，找到了解决良品率的有效途径。而这种技术一旦成熟，将对整个半导体产业的发展带来全新变化！
