这个推广应用指导目录里的DUV光刻机简单说一嘴，分辨率65nm，套刻8nm，这个离我们国内之前买到的NXT1980Di还有差距，NXT1980Di分辨率是38nm，套刻精度是1.6nm。
这个分辨率和工艺制程不是一个概念。NXT1980Di 38nm可以做7nm工艺制程，台积电第一代7nm就是这么做的，麒麟980和苹果A12那一代，双重曝光。
麒麟9000S也是NXT1980Di，也类似。可以做等效5nm，做等效5nm要四重曝光，很极限了，良率低，一次曝光良率的四次方。
咱们公布的这个离7nm工艺制程还有距离。
有就是一个好的开头。
路通了，就看修路水平了，目前是动车水平，争取350公里高铁，争取磁悬浮列车水平就可以傲视全球了，加油中国科技，就这水平也让美西心态碎了一地，曾经以为不可能的，这么快就可能了，剩下的就是时间问题了
这个方面我们中国是很快，因为我们是24小时研发，外国是8小时研发，加上节假休息，所以我们的速度是他们的三倍以上，很快就赶上。
不泼点冷水不说点风凉话，怎么显得自己能呢。
总有清醒的人，总有泼冷水的人
干式曝光出来了，浸没式就不远了。
9000s不是asml的光刻机做的！你胡咧咧什么呢？
已经很厉害了，不要太苛求。 就目前这个东西已经可以做一半的芯片需求了，而且我们并没有停止脚步前进
张嘴就来，谁告诉你9000S是啥机子产的…
本来就是宣传是28纳米光刻机，从来没有说过7纳米。
那一样高技术产品出来，不被人热潮冷讽？中国总有这种人混的风生水起的土壤！国产加油！我相信很快，5nm，3nm这些就会被拿下的