重磅消息！国产DUV光刻机横空出世！根据人民网报道，国产氟化氩光刻机大大方方的被列入了国家重大装备推广目录，这也意味着我国DUV光刻机已经横空出世了，这下，某国的脸可能都要被打肿了。 从推广目录可以看出来，我国DUV氟化氩光刻机分为两个型号，上面一个型号可以套刻25纳米工艺的芯片，下面一个型号就厉害了，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm，也就是说可以套刻≦8纳米工艺制程的芯片，这可以说就相当给力了。 现在广泛使用的芯片中，大部分的芯片，8纳米以上制程就基本上可以满足使用要求了，而我国DUV光刻机可以套刻≦8纳米工艺制程的芯片，那么这也意味着我国大部分芯片都可以自己生产了，这也意味着芯片产业再次有了跨越式的发展。 而且更重要的是，我国已经研发出来了DUV光刻机，可以生产套刻≦8纳米芯片，那么下一步全力攻关的可能就是EUV光刻机了。对于我国芯片产业来说，现在有了国产DUV先用着，等再过个几年，国产EUV就出来了，到那个时候，中国芯片产业将震惊世界。