8nm光刻机重大突破？节后直接起飞吗？ 近日，工信部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。工信微报介绍称，中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。而就在电子专用装备目录下，集成电路设备方面出现了氟化氩光刻机和氟化氪光刻机，这两者均属于DUV光刻机。 其中氟化氩光刻机显示为分辨率≤65nm、套刻≤8nm； 虽然也是里程碑，但是也不是说就解决了卡脖子问题，距离解决卡脖子任然任重道远，尖端的科技问题差距任然很大 因为：这是干式duv光刻机啊，往上还有湿式光刻机、Euv光刻机，而且这是套刻8纳米，不是制程8纳米啊，相当于制程是20纳米以上，估计是能生产出28纳米的芯片 目前最先进制成是3纳米量产，1纳米已经成功，我们也只能是量产14纳米，一对比就知道差距 国产替代任重道远，但是相信终会解决的