这件事可能比六代机首飞还要大的多，我国EUV光刻机研制工作，取得了迄今为止最重大的技术突破，或许将成为压垮美国科技霸权的最后一根稻草。 昨天，哈尔滨工业大学发布一条重磅消息，EUV光刻机的光源技术——“放电等离子体极紫外光刻光源”项目荣获黑龙江省高校和科研院所科技创新成果转化大赛一等奖。 哈尔滨工业大学航天学院，光电子技术研究所博士生导师王骐团队的重点项目《放电等离子体极紫外光刻光源关键物理及技术问题研究》已经公关了5年，和特朗普第一个任期发起的芯片制裁差不多是同一时间段。 可见我国科研人员早就开始未雨绸缪了，并不是网上有人说的“美国如果不遏制和打压中国，中国就不会搞光刻机”。 也就是说，从《中国制造2025》制定的科技强国战略那天开始，中国就已经计划对全球所有高科技产业吃干抹净了，管你丫的制裁不制裁，光刻机是迟早要拿下的。 ‌EUV光刻机的光源技术是最难克服的技术之一‌，EUV光刻机依赖于波长仅为13.5纳米的极紫外线（EUV）光源，这种光源的产生与控制是极大的技术挑战，如今这块硬骨头啃下来了，手上有荷兰阿斯麦公司(ASML）相关股票的可以抛了。