振奋人心！哈工大突破光刻机关键技术，芯片突围战打响 一直以来，欧美在半导体领域对咱们围追堵截，搞得芯片就像被上了锁的宝藏，咱们看得见却拿不到。但是，就在最近，哈尔滨工业大学宛如一位超级英雄闪亮登场，给咱们带来了希望之光！ 哈工大在高端光刻机领域立下了赫赫战功！他们的国产 7nm 芯片及以下 EUV 光源技术取得了重大突破。这个项目可不简单，还拿了一等奖呢，绝对是黑龙江高校成果转化的王牌项目。 主导这个项目的赵永蓬教授透露，他们采用了放电等离子体技术，成功获得了中心波长为 13.5 纳米的极紫外光（EUV）。这玩意儿可厉害着呢，它正是荷兰阿斯麦尔（ASML）光刻机最最核心的技术。有了它，咱们通过多重曝光工艺，就能生产出 7nm、5nm 这些高端芯片啦。这意味着什么？这意味着咱们即将冲破欧美半导体产业给咱们设下的重重封锁，在芯片的战场上撕开一道口子，杀出自家的一片天！ 以前，咱们被卡脖子，手机、电脑等各种高科技产品的芯片都受制于人，价格被抬得高高的不说，还得看别人脸色。现在不一样了，哈工大的科研人员们日夜兼程、潜心钻研，终于让咱们看到了国产芯片崛起的曙光。宝子们，是不是觉得热血沸腾？让我们为哈工大的科研英雄们点赞，期待国产芯片的华丽逆袭！