我国光刻机主要有以下型号种类： 上海微电子装备集团 - ssb200大mask系列曝光机：主要用于AMOLED和LCD等显示屏的制造。 - ssb200小mask系列曝光机：同样应用于AMOLED和LCD等显示屏的制造领域。 - ssb300系列步进光刻机：可满足Micro/MiniLED、新型化合物半导体器件和MEMS等芯片制程的光刻工艺需求，适用于2英寸到6英寸基底先进光刻领域。 - ssb500系列光刻机：用于集成电路先进封装领域，包括FlipChip、Fan-In、Fan-Out WLP/PLP和2.5D/3D等先进封装。 - ssx600系列光刻机：可用于IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺。 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 - LDW系列：最小线宽优于350nm，能够满足130nm-90nm制程节点的掩膜版制版需求。 - WLP系列：最小线宽优于2μm，最大曝光面积200mm*200mm，套刻精度500nm等，主要应用于IC载板、先进封装等领域。 工信部推广的光刻机 - 氟化氪（KrF）光刻机：激光波长300纳米，分辨率小于等于110纳米，套刻精度小于等于25纳米。 - 氟化氩（ArF）光刻机：波长193纳米，分辨率小于等于65纳米，套刻精度小于等于8纳米。