有望3纳米！中科院研发出固态DUV光源技术！近日，根据媒体报道，中科院研发出来固

有望3纳米！中科院研发出固态DUV光源技术！近日，根据媒体报道，中科院研发出来固态DUV光源技术，理论上有望推进到3纳米芯片，这样的技术有可能将带来中国芯片产业的新突破了。 中科院固态DUV光源与ASML光源是不同技术路线，中科院DUV光源是在固体中产生光源，采用自制的高级晶体，产生1030纳米激光，然后经过两路波长转换之后混合成功输出了193纳米涡旋光束，这也是国际上首次，而ASML则是气体光源技术，采用氩，氟气体混合物在高压电场中产生193纳米波长的光子。 中科院固态DUV光源的成功研发，将可能为我国先进光刻机的研发提供新思路，而且更牛的是，固态193纳米光源，理论上也可以实现3纳米制程芯片的制造，同时固态相对气态发光来说，结构更小，系统更简单，这样一来，研发出来的光刻机体积还可能更小，成本也可能更低，能耗也可能更低，结构可能更简单，这样一来，就有可能让我国芯片产业发展更好了。 近些年来，美国为了限制中国芯片产业的发展，限制荷兰ASML卖给我们先进DUV光刻机和更先进的EUV光刻机，这样一来，对于我国芯片产业发展影响很大，但是现在我国DUV光刻机已经突破了，大概已经可以生产7纳米芯片了，而未来如果中科院固态DUV光源可以快速进入量产实用化，那么将可能让我国芯片产业迈进3纳米芯片制造技术，将可能大大提升我国芯片产业竞争力，这对于我国芯片产业来说，就是一个重大好消息了。